Co-LAB | 栗本鐵工所

幅広い種類の粉体機器を取り扱っており、
さまざまな生産プロセスの改善・効率化に貢献いたします。

KRCニーダ(二軸連続式混練機)

二軸のスクリュ・パドルを回転させ連続的に混練

仕様
連続式/二軸/セルフワイピング
能力
減圧運転(到達真空度:Max.1,000PaA

Point

  • 短いL/Dの中で抜群の混練性能
  • 組み合わせ自由なパドル構成
  • 金属接触が起こらない両軸受構造

HBリアクタ(二軸連続式反応機)

二軸のパドルを回転させ長い滞留時間で混練・反応

仕様
連続式/二軸/高真空/高温
能力
原料粘度対応域:10~5,000Pa・s

Point

  • 高粘度原料への対応
  • 高温・真空条件下での連続運転
  • 長い滞留時間

クロスジェットミル(気流式微粉砕機)

ノズルから噴出するジェット気流で原料同士を衝突させ粉砕

仕様
連続式/乾式/雰囲気制御/分級機内蔵
能力
原料粒度:数mm以下/ 製品粒度:D50=100~1µm

Point

  • 製品粒径:数μmレベルの微粉砕が可能
  • シャープな粒度分布
  • 金属コンタミレス仕様が可能

VXミル(竪型ローラミル)

テーブル上の原料をローラですりつぶし粉砕

仕様
連続式/乾式/分級機内蔵
能力
原料粒度:約50mm以下/ 製品粒度:D50=~3µm

Point

  • 高い粉砕効率
  • 優れた耐摩耗性
  • 優れたメンテナンス性

撹拌ミル(乾式竪型ビーズミル)

原料とビーズを回転羽根で撹拌し粉砕

仕様
連続式/乾式/センターチャージ
能力
原料粒度:約200µm以下/ 製品粒度:D50=~0.3µm

Point

  • シングルミクロン、サブミクロンの粉砕が可能
  • ショートパスが少ない効率の良い粉砕が可能
  • ケーシング外面のジャケットより水冷が可能

遊星ミル ハイジー(遊星ボールミル)

ポットの自転と装置の公転による遠心力で粉砕・合成

仕様
バッチ式/乾式・湿式
能力
原料粒度:約500µm以下/ 製品粒度:D50=100~1µm

Point

  • 大きなエネルギーで粉体処理(遠心加速度:150G)
  • 自転に可逆式を採用
  • ポット容量:25Lの大型機の実績を有する

ボールミル

胴体の回転でボールを掻きあげ、落下時の衝撃とボールの転動で粉砕

仕様
連続式・バッチ式/乾式・湿式・潤式
能力
原料粒度:約50mm以下/ 製品粒度:D50=100~10µm

Point

  • 大型化が容易なため、大量処理が可能
  • 乾式・湿式のいずれも使用可能
  • バッチ式による超微粉砕

ロッドミル

胴体の回転でロッドを掻きあげ、落下時の衝撃とロッドの転動で粉砕

仕様
連続式・バッチ式/乾式・湿式・潤式
能力
原料粒度:約100mm以下/ 製品粒度:D50=5mm~500µm

Point

  • 大型化が容易なため、大量処理が可能
  • 乾式・湿式のいずれも使用可能
  • 過粉砕が少なく粒度が均一

ロールグラニュレータ(乾式粗砕・整粒機)

2本の溝付きロールの間に原料を巻き込み粉砕

仕様
連続式/乾式
能力
原料粒度:10~5mm/ 製品粒度:2~0.5mm

Point

  • 微粉の発生が少なく、シャープな粒度分布になる
  • 接粉部に耐摩耗、金属コンタミレス仕様が可能
  • 清掃・メンテナンスが容易

スクリーン式グラニュレータ(乾式粗砕・整粒機)

回転ロータでU字型スクリーンに原料を押し付け粉砕

仕様
連続式/乾式
能力
原料粒度:10~5mm/ 製品粒度:5~2mm

Point

  • 粒度調整が容易
  • 信頼性の高いスケールアップ
  • 清掃・メンテナンスが容易

シャープカットセパレータ(気流式分級機)

かご型ロータの遠心力で粗粉と微粉を振り分け

仕様
連続式/乾式
能力
粗粉側:D50=約100~10µm/ 微粉側:D50=約10~1µm

Point

  • シャープな粒度分布
  • 分級点の調整が容易
  • 耐摩耗性に優れ、金属コンタミレス仕様も可能

MRCPローラコンパクタ(乾式圧縮造粒機)

二軸スクリュで押し出した原料を、加圧ロールで板状に成形

仕様
連続式/乾式/セルフワイピング/バインダーレス
能力
原料粒度:D50=100~10μm/ 製品厚み:5~2mm

Point

  • 付着性の高い粉体でも対応可能
  • 製造フローの省力・効率化
  • ロールの冷却が可能

CDドライヤ(二軸間接加熱乾燥機)

二軸カットディスクの回転で撹拌しながら乾燥

仕様
連続式/間接加熱/蒸気乾燥/雰囲気制御
能力
加熱温度:~200℃

Point

  • 装置がコンパクト
  • 熱効率が高い
  • 多様な熱媒体・冷媒の使用が可能

スチームチューブドライヤ(間接加熱乾燥機)

熱媒が入ったチューブと胴体の回転で撹拌しながら乾燥

仕様
連続式/間接加熱/蒸気乾燥
能力
加熱温度:~151℃

Point

  • 大型化が容易なため、大量処理が可能
  • 間接加熱方式のため、排ガス量が少ない
  • ランニングコストを低減できる

流動層乾燥装置

胴体下から熱風を吹き付け、原料を流動化させて乾燥

仕様
連続式/直接加熱/熱風乾燥
能力
加熱温度:~200℃

Point

  • 流動層内温度を均一に保持しやすく乾燥ムラが少ない
  • 処理能力が大きい
  • 低含水率まで乾燥可能

外熱式ロータリーキルン

正六角形断面の胴体を回転させ、撹拌しながら焼成

仕様
連続式/外熱式/雰囲気制御
能力
加熱温度:~900℃

Point

  • 優れたエアシール性能
  • 様々な雰囲気下での運転が可能
  • 焼成温度のシビアなコントロールが可能

セラミックキルン

セラミックス製の胴体を回転させ、撹拌しながら焼成

仕様
連続式/外熱式/雰囲気制御
能力
加熱温度:~1300℃

Point

  • 金属コンタミレス焼成に対応
  • 高温域(~約1,300℃)での連続焼成に対応
  • 雰囲気制御下での焼成が可能

異速型SCプロセッサ(二軸間接加熱乾燥・冷却装置)

熱媒循環する二軸の中空スクリュを回転させ、乾燥・脱ガス処理

仕様
連続式/間接加熱/二軸/セルフワイピング
能力
加熱温度:~200℃

Point

  • コンパクトで大きな伝熱面積を保有
  • セルフワイピング型スクリュによる安定運転が可能
  • 相変化する原料でも連続処理が可能

溶剤回収装置/脱臭装置

排ガス中の溶剤を活性炭で吸着後、水蒸気を吹き込み脱離

仕様
蒸気脱着式/活性炭吸着
能力
溶剤除去率:95%

Point

  • 高い除去効率で、入口濃度の大きな変動に対応
  • 高い脱着効率
  • 回収液の安定性が高いので再利用が可能

真空脱着式溶剤回収装置

排ガス中の溶剤を活性炭で吸着後、減圧により脱離

仕様
真空脱着式/活性炭吸着
能力
溶剤除去率:95%

Point

  • 高い除去効率で、入口濃度の大きな変動に対応
  • 常温脱着で蒸気源が不要
  • 蒸気脱着式に比べ、排水量を低減